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如何判斷納米位移臺是否需要重新校準?

判斷納米位移臺是否需要重新校準,通常依據(jù)以下幾個方面的表現(xiàn)和檢測指標來評估:
一、位移精度下降或誤差超標
重復定位誤差增大:同一位置多次定位結(jié)果不一致,超出廠商提供的重復精度范圍。
線性度變差:位移輸出與輸入指令不再呈現(xiàn)良好的線性關(guān)系,出現(xiàn)偏移或非線性失真。
出現(xiàn)系統(tǒng)漂移:在靜止狀態(tài)下,反饋讀數(shù)緩慢發(fā)生偏移,提示零點穩(wěn)定性降低。
二、系統(tǒng)反饋與實際偏差變大
閉環(huán)反饋值不匹配:傳感器讀數(shù)與設(shè)定指令或目標位移出現(xiàn)顯著偏差。
軌跡不再準確:掃描過程中軌跡出現(xiàn)偏斜、偏移、彎曲等不應(yīng)有的異常。
三、環(huán)境變化或設(shè)備搬遷后
溫濕度環(huán)境大幅變化:環(huán)境溫度、濕度變化會影響壓電材料、傳感器靈敏度與機械結(jié)構(gòu)尺寸,從而影響校準狀態(tài)。
搬運或震動后使用:設(shè)備曾被移動、運輸或受到震動沖擊,可能造成傳感器位置、限位參考點或機構(gòu)輕微移位。
長時間未校準:超過廠商建議的校準周期(如6個月或1年),尤其在精度要求較高的應(yīng)用中。
四、使用過程中出現(xiàn)以下情況
掃描圖像出現(xiàn)變形(SEM/AFM 應(yīng)用中典型):
比如長方形圖像被拉伸成菱形、圓形變橢圓。
不能達到指定行程或某一方向運動行程減小。
運動過程中產(chǎn)生突跳、卡滯感,提示反饋控制或機械傳動偏離正常狀態(tài)。
五、通過標準樣品驗證誤差
使用標準參考樣品(如具有已知間距的臺階、晶格等)進行掃描或測量:
如果測得的尺寸偏離標準值,說明系統(tǒng)校準已偏離。
多點標定誤差明顯增加,也可作為重新校準的依據(jù)。